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化學(xué)氣相沉積CVD |
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| LPCVD系列 |
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LPCVD system(低壓力化學(xué)氣相沉積系統(tǒng))。設(shè)備主要部件全部選用國際主流知名品牌，適用于IC芯片制造、可控硅芯片制造、二三極管芯片制造、整流橋芯片制造、太陽能電池芯片制造等各種芯片造行業(yè)。涵蓋工藝包括：LTO（二氧化硅）、PSG（磷硅玻璃）、SIPOS（半絕緣多晶硅）、POLY（多晶硅）、SI3N4（氮化硅）、TEOS等。設(shè)備成熟穩(wěn)定安全可靠，可配套提供相應(yīng)工藝技術(shù)支持。 |
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